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    如何去除硅膠制品的靜電和表面防塵問題?

    發布時間:2021-09-13 14:19:54 瀏覽:5次 責任編輯:深圳市源興興電子配件公司

      如何去除硅膠制品的靜電和表面防塵問題?要生產出令客戶滿意的硅橡膠制品,表面處理工藝非常重要;除了打印之外,還需要做好防塵工作。由于硅膠含有靜電,這使得產品容易吸附灰塵、雜質和頭發。今天源興興與大家分享一下如何去除硅膠產品的靜電和表面防塵問題。

     

      理論上,硅膠制品表面有氧原子,帶有負電極和靜電,而灰塵顆粒帶有正電極。因此,灰塵顆粒與硅膠靜電表面會相互吸引,使表面灰塵難以清潔,影響產品外觀。針對硅膠制品表面易揚塵的問題,硅膠制品廠致力于研究解決方案,發現采用等離子表面改性技術可以提高性能。最后,等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術達到優化產品表面性質的效果。

     

      受靜電影響,一般硅膠制品容易沾上灰塵。如果廠家采用傳統的化學涂層方式,防塵潤滑涂層只能維持幾個月;一個好的方法是用等離子體能量對硅膠表面的氧原子進行改性。將負極硅膠產品表面改為正極,過程中使用無害的有機化學品,不會排放污染廢物,是一種清潔生產工藝。具有低靜電、高防塵效果的特點;適用于表帶等,也可用于醫療器械。

     

      等離子表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑料等材料。也可用于金屬、塑料、陶瓷材料表面部分的清洗、活化和蝕刻,改變材料表面的物理特性;硅膠制品經過防塵處理和環保技術,可有效解決硅膠靜電易積塵問題,延長產品使用壽命。它是一種硅膠表面處理工藝。適用于所有硅膠及相關產品。

     

      高能脈沖等離子磁控濺射技術(HPPMS)是一種結合“高能”和“脈沖”兩大特點的新型磁控濺射系統。在鍍膜過程中,電源起著重要的作用。采用“高能”和“脈沖式”放電方式,可在不到2微秒的短時間內,釋放出高達1500V輸出電壓的強大能量,猶如閃電。由于在此過程中釋放出大量離子,消除了涂層的內應力,因此可以在不損壞產品或工件表面的情況下制成較厚的離子涂層。這種方法可以提高電離率,即提高涂層在產品表面的附著力。

     

      高能脈沖等離子磁控濺射技術可以超越傳統的磁控濺射方法,產生3μm以上的高質量厚離子鍍層;由于高能脈沖法有利于增加離子密度,不僅加強了涂層與基體的接合力,亦可減低表面粗糙度,在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數。

     

      對于裝飾性很強的硅膠制品來說,可以保持外觀,更耐用;因此,高能脈沖涂層可以有效地利用等離子體來控制涂層的結構;其特點是可以沉積在光滑致密的微觀結構上。提高耐腐蝕性和表面光潔度;或者它可以沉積在復雜的幾何工件上,以獲得更均勻的涂層。


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